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基于热感生电场诱导流变直写的光栅制造方法
技术类型： 发明专利
交易方式： 完全转让 许可转让 技术入股
专利号：CN201510184099.X
技术详细介绍
本发明公开了基于热感生电场诱导流变直写的光栅制造方法，栅线掩膜制造装置包括控制系统，热源，接收平台，热电材料，挤出平台，供液装置。光栅制造方法，步骤为1）将该图形结构转换为轮廓数据和填充数据；2）制造掩膜；3）形成保护膜；4）去除掩膜，清洗，在保护膜上形成栅线结构的凹槽即可。本发明的光栅制造方法，可以避免传统近场电纺直写技术的相关缺点例如电压阀值高，多针头直写的时候，容易产生干涉现象，以及容易产生简短放电现象，且所得掩膜的精度不高等。另外，本发明的光栅制造方法，不涉及化学腐蚀过程，工艺绿色简单且成本较低。
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